石川擂潰機電子材料處理技術：從實驗室到量產的精密分散解決方案

發布日期：2025-07-21      瀏覽次數：116

引言
電子材料（如鋰電漿料、導電膠、半導體封裝材料）的分散均勻性直接影響產品性能。傳統攪拌設備難以兼顧納米級分散與規模化生產，而石川擂潰機通過杵臼式剪切+可控溫/真空系統，成為從研發到量產的理想選擇。本文解析其技術原理，并對比不同型號的適用場景。

一、技術核心：石川擂潰機如何實現精密分散？

1. 杵臼式剪切力設計

• 單杵 vs 雙杵：

• 單杵（D101S/D16S）適合低粘度漿料（如PVDF-NMP溶液），溫和剪切避免材料損傷；

• 雙杵（D18S/D22S）通過對稱擠壓破碎團聚顆粒，適合高粘度漿料（如鋰電電極材料）。

• 轉速可調（8-50rpm）：低速避免氣泡生成，高速提升分散效率。

2. 特殊工藝適配能力

• 真空脫氣（選配）：D18S/D22S可減少漿料孔隙率，提升電子封裝膠的致密性；

• 氣氛保護：氬氣環境處理敏感材料（如硫化物固態電解質）；

• 溶劑安全系統（D20S）：防爆設計適配丙酮、NMP等有機溶劑。

3. 從微升到升級的處理量覆蓋

• 微量研發（0.03L微型機）→ 小試（0.2-0.4L）→ 中試（1-2L）→ 量產驗證（4L），避免放大效應導致的工藝失效。

二、電子行業典型應用案例

1. 鋰離子電池漿料

• 問題：電極材料（如LFP、NCM）易團聚，影響電池能量密度。

• 解決方案：

• 研發階段：D16S優化漿料配方（固含量60%，粘度15,000cP）；

• 量產前：D22S真空處理，漿料電阻率降低18%。

2. 電子封裝膠

• 問題：環氧樹脂填料沉降導致導熱不均。

• 解決方案：D20S雙杵捏合+溶劑系統，實現SiO?填料均勻分散（粒徑D50≤1μm）。

3. 半導體漿料

• 案例：D18S在氮化鋁（AlN）漿料中實現92%分散效率，優于球磨機（75%）。

三、選型邏輯：匹配需求與型號

需求場景	推薦型號	關鍵優勢
納米材料微量研發	微型型	0.03L超小量，減少珍貴材料浪費
低粘度漿料小試	D101S	低成本，適合PVDF等溶液體系
高粘度漿料中試	D18S	雙杵+真空，孔隙率<0.5%
溶劑型漿料安全處理	D20S	防爆設計，符合OSHA標準
量產前穩定性驗證	D22S	4L大容量，功率200W，接近產線條件

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四、未來趨勢：擂潰機在電子材料中的創新方向

1. 智能化控制：接入PLC系統，實時監測粘度、溫度等參數；

2. 納米級分散升級：結合超聲輔助（如D22S+超聲模塊）；

3. 綠色工藝：無水清洗設計，減少溶劑消耗。

結語
石川擂潰機通過模塊化設計（杵數/容量/功能可選）和工藝適配性，成為電子材料分散的“全流程工具"。